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    原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環裝置

    簡要描述:【無錫冠亞】原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環裝置 ,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產品型號:SUNDIZ4-5W
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-17
    • 訪  問  量:408
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
    產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

    原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環裝置


    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協議

    MODBUS RTU 協議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環系統

    整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


    原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環裝置

    原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環裝置

      Chiller,即冷卻裝置或冷水機,是一種通過制冷劑循環來降低環境溫度的設備,在工業生產中,Chiller因其多種特點,被廣泛應用于多個領域,包括電子、制藥、化工、醫藥以及半導體等。

      濃縮是工業生產中的環節之一,它通過將溶液中的溶劑部分去除,從而提高溶液中溶質的濃度。在濃縮過程中,離不開溫度的控制。如果溫度過高,可能會導致溶質變性;而如果溫度過低,則可能降低濃縮效率。因此,濃縮過程需要控制溫度的參與。

      Chiller正是配套溫度控制。通過制冷劑的循環流動,將熱量從需要冷卻的介質中帶走,并排放到環境中,從而實現溫度的控制。在濃縮過程中,Chiller可以將溶液的溫度控制在一定范圍內,從而確保濃縮過程的順利進行。

      具體來說,Chiller在濃縮中的應用主要體現在以下幾個方面:

      1、Chiller可以通過調節制冷劑的流量和壓力,控制溶液的溫度。這種溫度控制有助于防止溶質在濃縮過程中發生變性,從而確保產品的質量。

      2、在濃縮過程中,適當的溫度可以加速溶劑的蒸發,從而提升濃縮效率。Chiller可以根據實際需要,將溶液的溫度調節到適當狀態,從而加速溶劑的蒸發,縮短濃縮時間。

      3、Chiller可以根據不同的濃縮需求和工藝條件進行定制和優化,適用于各種規模的濃縮系統。這使得Chiller在濃縮領域具有廣泛的應用。

      除了以上幾點外,Chiller在濃縮過程中還可以與其他設備配合使用,如蒸發器、冷凝器等,共同構成一個完整的濃縮系統。這種系統可以實現對溶液溫度、壓力、流量等多個參數的控制,從而提升濃縮過程的自動化程度。

    Chiller在濃縮過程中可以控制溶液的溫度,提升濃縮效率,還可以實現廣泛的應用。隨著科技和工業生產的不斷發展,Chiller在濃縮領域的應用將會越來越廣泛。



    原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環裝置



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