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    • TCU-無錫冠亞plc溫度控制系統ZLF-50N

      TCU-無錫冠亞plc溫度控制系統ZLF-50N,用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

      更新時間:2025-01-08

      廠商性質:生產廠家

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    • TCU-無錫冠亞反應釜模溫機ZLF-35NSH

      TCU-無錫冠亞反應釜模溫機ZLF-35NSH,用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

      更新時間:2025-01-08

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    • TCU-無錫冠亞反應釜冷卻系統ZLF-35NH

      TCU-無錫冠亞反應釜冷卻系統ZLF-35NH,用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

      更新時間:2025-01-08

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    • TCU-無錫冠亞反應釜加熱循環器ZLF-35NS

      TCU-無錫冠亞反應釜加熱循環器ZLF-35NS,用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

      更新時間:2025-01-08

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    • TCU-無錫冠亞反應釜溫度控制ZLF-35N

      TCU-無錫冠亞反應釜溫度控制ZLF-35N,用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

      更新時間:2025-01-08

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    • TCU-無錫冠亞反應釜控溫SR-200NSH

      TCU-無錫冠亞反應釜控溫SR-200NSH,用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

      更新時間:2025-01-08

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