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    高溫低溫反應輔助設備配套1000L反應釜控溫

    簡要描述:【無錫冠亞】高溫低溫反應輔助設備配套1000L反應釜控溫,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    • 產品型號:SUNDI-275
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-16
    • 訪  問  量:789
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間10萬-20萬
    產地類別國產應用領域化工,生物產業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合


    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統(tǒng)

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統(tǒng)

    整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規(guī)重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /





      

      

      

      

      

      在生物行業(yè)中,中試實驗能夠模擬實際生產中的各種環(huán)境和條件,對產品的性能和可靠性進行評估和測試。其中,冠亞制冷-20/20高低溫循環(huán)裝置是應用在中試實驗中的控溫設備,在中試實驗中的應用越來越廣泛。

      -20/20高低溫循環(huán)裝置是一種能夠模擬溫度變化的實驗設備,可以在短時間內將夾套內的流體實驗樣品置于高溫和低溫環(huán)境下,以測試樣品在不同溫度下的性能和穩(wěn)定性。這種裝置在許多領域都有應用,如電子、通信、化工、醫(yī)藥等。

      在中試實驗中,-20/20高低溫循環(huán)裝置的應用非常重要。在電子和通信領域,-20/20高低溫循環(huán)裝置可以用于測試電子元件和通信設備的性能和可靠性。在化工領域,冠亞制冷-20/20高低溫循環(huán)裝置可以用于測試化學反應在不同溫度下的反應速率和產物質量。在醫(yī)藥領域,-20/20高低溫循環(huán)裝置可以用于測試藥物在不同溫度下的穩(wěn)定性。

      -20/20高低溫循環(huán)裝置在中試實驗中可以模擬實際生產中的溫度變化,使實驗結果更加接近實際情況。其次,-20/20高低溫循環(huán)裝置可以在短時間內完成實驗,提高實驗效率。當然,-20/20高低溫循環(huán)裝置還可以測試樣品的性能和穩(wěn)定性,為產品的研發(fā)和生產提供重要的參考依據。

    總之,冠亞制冷-20/20高低溫循環(huán)裝置在中試實驗中可以模擬溫度變化,測試樣品的性能和穩(wěn)定性,為產品的研發(fā)和生產提供重要的參考依據。



    高溫低溫反應輔助設備配套1000L反應釜控溫

    高溫低溫反應輔助設備配套1000L反應釜控溫


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