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    介質刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序

    簡要描述:【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。介質刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序

    • 產品型號:LTS-202
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-16
    • 訪  問  量:864
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
    價格區間10萬-50萬產地類別國產
    儀器種類一體式應用領域化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件



    無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

    主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,

    ?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。




    【 冠亞制冷 】半導體行業主營控溫產品:

    半導體專溫控設備

    射流式?低溫沖擊測試機

    半導體專用溫控設備chiller

    Chiller氣體降溫控溫系統

    Chiller直冷型

    循環風控溫裝置

    半導體?低溫測試設備

    電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

    射流式高低溫沖擊測試機

    快速溫變控溫卡盤

    數據中心液冷解決方案


    型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
    FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
    溫度范圍5℃~40℃
    控溫精度±0.1℃
    流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
    制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
    內循環液容積4L5L6L8L10L12L20L
    膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
    制冷劑R410A
    載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
    進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
    冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
    冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
    電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
    溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





    介質刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序

    介質刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序


      隨著科技的不斷發展,半導體行業對設備冷卻的需求日益增長,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller在半導體制造過程中發揮著作用。本文將對淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller的應用進行詳細介紹。

      1、半導體制造:在半導體制造過程中,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller被廣泛應用于冷卻芯片、晶體管等高精度、高功率器件。

      2、激光器冷卻:激光器在運行過程中會產生大量的熱能,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠為激光器提供穩定的冷卻環境,保證其性能穩定。

      3、電力電子設備冷卻:在電力電子設備中,如變頻器、電源等,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠有效地冷卻關鍵器件,提高設備可靠性。

      4、其他領域:除上述領域外,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller還廣泛應用于設備、光學儀器等領域。

    淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠實現溫度的準確控制,為設備提供穩定的冷卻環境。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller結構緊湊,體積小,適用于空間有限的場合。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller操作簡單,維護方便,降低了使用成本。


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