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    頂層介質刻蝕(cathode)單通道chiller

    簡要描述:【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。頂層介質刻蝕(cathode)單通道chiller

    • 產品型號:LTS-202
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-16
    • 訪  問  量:831
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
    價格區間10萬-50萬產地類別國產
    儀器種類一體式應用領域化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件



    無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

    主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,

    ?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。




    【 冠亞制冷 】半導體行業主營控溫產品:

    半導體專溫控設備

    射流式?低溫沖擊測試機

    半導體專用溫控設備chiller

    Chiller氣體降溫控溫系統

    Chiller直冷型

    循環風控溫裝置

    半導體?低溫測試設備

    電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

    射流式高低溫沖擊測試機

    快速溫變控溫卡盤

    數據中心液冷解決方案


    型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
    FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
    溫度范圍5℃~40℃
    控溫精度±0.1℃
    流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
    制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
    內循環液容積4L5L6L8L10L12L20L
    膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
    制冷劑R410A
    載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
    進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
    冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
    冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
    電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
    溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





    頂層介質刻蝕(cathode)單通道chiller

    頂層介質刻蝕(cathode)單通道chiller


      側墻刻蝕單通道chiller其作用是保持半導體的冷卻和溫度穩定。為了確保其正常運行和延長使用壽命,以下是一些防止注意事項:

      1、保持設備清潔

      側墻刻蝕單通道chiller內部零件精細,容易受到灰塵和雜質的影響。因此,使用過程中要注意保持設備清潔。定期清理冷凝器、散熱器和管道中的雜質,避免堵塞和過熱。同時,對于外部設備,如泵和壓縮機等,也要保持清潔,避免灰塵和雜質的積累。

      2、正確使用和操作

      使用側墻刻蝕單通道chiller時,要遵循操作規程。要確保使用的水質符合要求,避免水中的雜質和礦物質對設備造成損害。其次,要根據需要設定適當的溫度和流量,避免設備過載或運行不穩定。此外,在設備運行過程中,要密切關注各項參數,如壓力、溫度和流量等,及時調整和維修。

      3、定期維護和保養

      為了確保側墻刻蝕單通道chiller的正常運行和使用壽命,定期維護和保養是不可少的。這包括檢查冷凝器、散熱器和管道是否有堵塞或泄漏,檢查泵和壓縮機的運行狀況,以及更換過濾器等易損件。此外,定期清洗設備內部和外部,確保設備清潔也是保養的重要內容。


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