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| 品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區間 | 10萬-50萬 | 產地類別 | 國產 |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件 |
主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統
Chiller直冷型
循環風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數據中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內循環液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
光阻回刻刻蝕雙通道chiller 深冷器冷水機
光阻回刻刻蝕雙通道chiller 深冷器冷水機
半導體專用溫控設備（Chiller）主要用于半導體制造過程中準確控制反應室的溫度。半導體專用溫控設備利用制冷循環和工藝冷卻水的熱交換原理通過對半導體工藝設備使用的循環液的溫度、流量和壓力進行控制，以實現半導體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中的關鍵設備。
1、明確應用需求
要明確冷水機在半導體設備中的應用需求。這包括但不限于設備的功率、冷卻能力、運行環境等。在了解這些需求的基礎上，才能選擇合適的冷水機型號。
2、考慮制冷量
頂層介質刻蝕雙通道chiller制冷量能夠保證設備在短時間內達到預設的溫度，并保持溫度穩定。因此，在選型時，應關注設備的冷卻效率及其與設備負荷的匹配程度。
3、考慮設備尺寸和重量
頂層介質刻蝕雙通道chiller尺寸和重量也是選型過程中需要考慮的因素。如果設備尺寸過大或重量過重，可能會給安裝、移動和維護帶來困難。因此，在選型時，應根據實際需求選擇合適尺寸和重量的設備。
