反應釜加熱冷卻裝置主要用途

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

反應釜加熱冷卻裝置主要用途

　　反應釜加熱冷卻裝置適合用于高純度金屬、稀有物質(zhì)提純、試驗室環(huán)境模擬、磁控濺射、真空鍍膜等行業(yè)，大型低溫泵機組可以為噸位級珍貴實驗室儀器提供降溫環(huán)境。反應釜加熱冷卻裝置是采取機械形式來制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。

　　結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式多用真空泵、磁力攪拌器等儀器，進行多功能低溫下的化學反應作業(yè)及藥物儲存。反應釜加熱冷卻裝置可與多種儀器配套使用，制冷量大，制冷速度快，能耗低，大大地提高了工作效率；反應釜加熱冷卻裝置的流量可調(diào)亦可定制，根據(jù)用戶要求在低溫與制冷量，低溫與容器量之間合理搭配。可以滿足不同用戶的實際需要。

　　反應釜加熱冷卻裝置主要用途：

　　1、能對雙層玻璃反應釜、不銹鋼反應釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等儀器設(shè)備提供超低溫低溫恒溫循環(huán)液。

　　2、對玻璃容器和玻璃反應裝置提供恒溫實驗場所。

　　3、石油化工、生物制藥、食品等行業(yè)應用提供恒溫實驗場源。

　　4、能對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制。

　　5、能對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。

　　選購反應釜加熱冷卻裝置要注意的幾點：

　　1、根據(jù)所需冷卻液體積來選擇循環(huán)泵型號，當然，容量越大價、溫度越低，價格也就越高。

　　2、根據(jù)實驗需要溫度不同，選用相應溫控范圍的低溫泵。溫度越低，泵的價格越高，無錫冠亞反應釜加熱冷卻裝置低溫可達-120℃。

3、實驗溶液否有腐蝕性，如果是強酸/堿類型溶液則需要選購耐腐蝕的反應釜加熱冷卻裝置。