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    半導體溫控裝置Chiller-TCU溫度單元

    簡要描述:半導體溫控裝置Chiller-TCU溫度單元的典型應用:
    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制;
    微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試;
    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

    • 產品型號:無錫冠亞
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-06
    • 訪  問  量:1435
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間面議
    產地類別國產應用領域石油,電子/電池,包裝/造紙/印刷,汽車及零部件,電氣

     

    <strong><strong><strong>閉式冷熱循環機-無錫冠亞廠家品牌</strong></strong></strong>

     

    適合化工、制藥、生化等低溫反應設備

    全密閉管道式設計,高效板式熱交換器, 應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。
    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制

     

    型號SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
    介質溫度范圍-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
    控制系統前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
    溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
    溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
    程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制42段步驟
    通信協議MODBUS RTU 協議  RS 485接口
    物料溫度反饋PT100
    溫度反饋設備溫度、設備出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
    導熱介質溫控精度±0.5℃
    反應物料溫控精度±1℃
    加熱功率2KW2KW3KW
    制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
    50℃1.5kW1.8kW3kW
    0℃1.5kW1.8kW3kW
    -5℃0.9kW1.2kW2kW
    -20℃0.6kW1kW1.5kW
    -35℃ 0.3kW0.5kW
    循環泵流量、壓力max10L/min 
    0.8bar
    max10L/min 
    0.8bar
    max20L/min 
    2bar
    壓縮機思科普思科普法國泰康
    膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
    蒸發器丹佛斯/高力板式換熱器
    操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
    安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
    密閉循環系統整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
    制冷劑R-404A/R507C
    接口尺寸G1/2G1/2G1/2
    水冷型 W
    溫度 20度
     450L/H
    1.5bar~4bar
    550L/H
    1.5bar~4bar
    外型尺寸mm400*600*870400*600*870400*600*1150
    正壓防爆尺寸 700*750*1215700*750*1215
    標配重量55kg55kg85kg
    電源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
    外殼材質SUS 304SUS 304SUS 304
    選配 正壓防爆  后綴加PEX
    選配可選配以太網接口,配置電腦操作軟件
    選配選配外置觸摸屏控制器,通信線距離10M
    選配電源100V 50HZ單相,110V 60HZ 單相,230V 60HZ 單相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相

    <strong><strong><strong>閉式冷熱循環機-無錫冠亞廠家品牌</strong></strong></strong>

    半導體溫控裝置Chiller-TCU溫度單元

    半導體溫控裝置Chiller-TCU溫度單元

    在集成電路產業中,隨著生產工藝不斷提高,對制程工藝要求也更嚴格。此前,半導體溫控裝置等裝備主要由國外,而無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司研發的“半導體高低溫測試設備” 改變了同類產品依賴的被動局面,打破了技術壟斷,促進國產儀器設備的進步。

    研發半導體高低溫測試設備溫控技術中的難點主要在于“精度”、“速度”和“可靠性”。其中“精度”是指控制溫度的精度要達到要求。“速度”是指到達溫度點的速率,根據控制對象的質量和體積不同,速率也會有所不同。“可靠性”是指設備整體的持續運轉可靠性,集成電路產業生產設備是7×24小時運轉、365天持續生產,在這樣的大背景下,保證溫控設備的正常運轉才能保證整個生產的順利進行。

    無錫冠亞半導體溫控裝置主要應用在半導體領域,未來,我們會將溫控裝置技術跟隨市場的變化進行不斷創新,并逐步向新的領域拓展。

    <strong><strong><strong>閉式冷熱循環機-無錫冠亞廠家品牌</strong></strong></strong><strong><strong><strong>閉式冷熱循環機-無錫冠亞廠家品牌</strong></strong></strong>

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